[发明专利]三维金属光栅的制作方法有效
| 申请号： | 201410421763.3 | 申请日： | 2014-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN105372735B | 公开（公告）日： | 2017-12-05 |
| 发明（设计）人： | 曾春红;付凯;李晓伟;林文魁;陆增天;张宝顺 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 | 代理人： | 孙伟峰,武岑飞 |
| 地址： | 215123 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种三维金属光栅的制作方法，包括步骤在外延片上形成间隔排列的多个挡体；在所述挡体之间形成三维金属结构；将所述挡体剥离去除，以在所述外延片上形成三维金属光栅。本发明利用表面等离子体激元将能量束缚在金属表面，在近场范围内可以增强平行于量子阱材料生长方向上的电场强度，并采用热蒸发的原理来制备三维金属光栅，从而提高多量子阱对光的耦合效率，提高红外探测器的探测灵敏度，进而促进红外探测器系统向小型化、便携式和高灵敏兼具的目标发展。 | ||
| 搜索关键词： | 三维 金属 光栅 制作方法 | ||
【主权项】：
一种三维金属光栅的制作方法，其特征在于，包括步骤：在外延片上形成间隔排列的多个挡体；在所述挡体之间形成三维金属结构；将所述挡体剥离去除，以在所述外延片上形成三维金属光栅；所述“在外延片上形成间隔排列的多个挡体”具体包括步骤：在外延片上涂覆第一光刻胶层；在所述第一光刻胶层上涂覆第二光刻胶层；对所述第二光刻胶层和所述第一光刻胶层进行曝光、显影，以形成间隔排列的多个挡体；其中，所述挡体包括未被曝光、显影的第二光刻胶层的部分及未被曝光、显影的第一光刻胶层的部分。
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