[发明专利]三维金属光栅的制作方法

权利要求书

1.一种三维金属光栅的制作方法，其特征在于，包括步骤：

在外延片上形成间隔排列的多个挡体；

在所述挡体之间形成三维金属结构；

将所述挡体剥离去除，以在所述外延片上形成三维金属光栅；

所述“在外延片上形成间隔排列的多个挡体”具体包括步骤：

在外延片上涂覆第一光刻胶层；

在所述第一光刻胶层上涂覆第二光刻胶层；

对所述第二光刻胶层和所述第一光刻胶层进行曝光、显影，以形成间隔排列的多个挡体；

其中，所述挡体包括未被曝光、显影的第二光刻胶层的部分及未被曝光、显影的第一光刻胶层的部分。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述多个挡体等间隔排列。

3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，在所述挡体中，所述未被曝光、显影的第二光刻胶层的部分的宽度大于所述未被曝光、显影的第一光刻胶层的部分的宽度。

4.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，在步骤“在所述第一光刻胶层上涂覆第二光刻胶层”之前，以预定温度对所述第一光刻胶层进行烘干。

5.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，在步骤“在外延片上涂覆第一光刻胶层”之前，在外延片上涂覆增粘剂。

6.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述第一光刻胶层采用LOR10A光刻胶，所述第二光刻胶层采用正性光刻胶材料。

7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述“将所述挡体剥离去除”具体包括：

利用丙酮溶液将所述挡体的未被曝光、显影的第二光刻胶层的部分去除剥离；

利用乙醇及去离子水对去除掉未被曝光、显影的第二光刻胶层的部分的挡体进行清洗；

利用预定浓度的正性光刻胶显影液将所述挡体的未被曝光、显影的第一光刻胶层的部分去除剥离。

8.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述挡体的高度大于所述三维金属结构的高度。