[发明专利]一种声表面波器件在光刻过程中的前烘方法在审
| 申请号： | 201410407221.0 | 申请日： | 2014-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN104317171A | 公开（公告）日： | 2015-01-28 |
| 发明（设计）人： | 董启明;张敬钧 | 申请（专利权）人： | 北京中讯四方科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/38 | 分类号： | G03F7/38 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人： | 郑立明;郑哲 |
| 地址： | 100194 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种声表面波器件在光刻过程中的前烘方法，属于声表面波器件技术领域，所述方法包括：将烘箱的温度稳定在160摄氏度，晶片将晶片放入所述烘箱中烘烤；烘烤10分钟之后将所述烘箱的温度降至155摄氏度，再烘烤10分钟之后将所述烘箱的温度降至150摄氏度，恒温保持1小时；将所述烘箱的温度降至120摄氏度，温度恒定10分钟后取出所述晶片。本发明通过将晶片的烘烤温度控制在150摄氏度至160摄氏度，使光刻胶达到流变状态，达到最大限度的保护线条作用，减缓侧向腐蚀的速度，实现厚膜细线条的目的，从而降低干刻或剥离的工艺复杂度，同时也降低了工艺成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面波 器件 光刻 过程 中的 方法 | ||
【主权项】：
一种声表面波器件在光刻过程中的前烘方法，其特征在于，包括：将烘箱的温度稳定在160摄氏度，晶片将晶片放入所述烘箱中烘烤；烘烤10分钟之后将所述烘箱的温度降至155摄氏度，再烘烤10分钟之后将所述烘箱的温度降至150摄氏度，恒温保持1小时；将所述烘箱的温度降至120摄氏度，温度恒定10分钟后取出所述晶片。
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