[发明专利]用于浸没式光刻浸没头机位姿调节机构的控制方法

摘要

本发明公开了一种用于浸没式光刻机浸没头位姿调节机构的控制方法，包括控制系统软件及硬件结构。软件部分包括位姿测量、位姿调节、用户交互和父系统通讯模块；硬件部分包括三自由度并联机构、激光位移传感器、音圈直线电机和控制器。该控制系统为实现安装于运动平台上的浸没头相对于硅片的精确位姿调节。同时能通过用户交互模块实现在线调试；通过与父系统通讯模块，实现系统的工作状态切换，系统参数设置及数据导出等功能；通过防碰撞模块及急停设计保证系统安全可靠运行。本发明特点在于其控制软件采用模块化和多线程的程序设计，保证其稳定性、可扩展性和可移植性；其机械结构通过三自由度并联机构实现，保证了系统的机械刚度和定位精度。

主权项

一种用于浸没式光刻机浸没头位姿调节机构的控制方法，其特征在于：该控制系统包括控制系统软件及控制系统硬件结构；控制系统软件采用模块化设计，包括位姿测量模块、位姿调节模块、用户交互模块和父系统通讯模块；控制系统硬件结构包括三自由度并联机构、三个激光位移传感器、三个音圈直线电机，三条光栅尺和电机控制器；控制系统软件启动后，光刻机主机通过父系统通讯模块或用户交互模块发出位姿调节指令，使位姿测量模块通过三个激光位移传感器实时获得浸没头位姿，然后位姿调节模块将其与设定位姿进行比较，再通过电机控制器驱动三个音圈直线电机，调节三自由度并联机构，实现浸没头达到设定位姿要求。