[发明专利]用于浸没式光刻浸没头机位姿调节机构的控制方法无效
| 申请号: | 201410393789.1 | 申请日: | 2014-08-12 |
| 公开(公告)号: | CN104199469A | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
| 发明(设计)人: | 傅新;陈文昱;马同;余乐贤 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
| 主分类号: | G05D3/12 | 分类号: | G05D3/12;G03F7/20 |
| 代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 林怀禹 |
| 地址: | 310027 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 浸没 光刻 机位 调节 机构 控制 方法 | ||
1.一种用于浸没式光刻机浸没头位姿调节机构的控制方法,其特征在于:该控制系统包括控制系统软件及控制系统硬件结构;控制系统软件采用模块化设计,包括位姿测量模块、位姿调节模块、用户交互模块和父系统通讯模块;控制系统硬件结构包括三自由度并联机构、三个激光位移传感器、三个音圈直线电机,三条光栅尺和电机控制器;控制系统软件启动后,光刻机主机通过父系统通讯模块或用户交互模块发出位姿调节指令,使位姿测量模块通过三个激光位移传感器实时获得浸没头位姿,然后位姿调节模块将其与设定位姿进行比较,再通过电机控制器驱动三个音圈直线电机,调节三自由度并联机构,实现浸没头达到设定位姿要求。
2.根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机浸没头位姿调节机构的控制方法,其特征在于:所述位姿测量模块,采用激光位移传感器,测出运动平台上三个定点相对于硅片上表面的高度,测得数据代入到位姿计算模型,从而得到目标执行器的精确位姿。
3.根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机浸没头位姿调节机构的控制方法,其特征在于:所述位姿调节模块,运用位姿测量模块所得到的位姿参数,判断当前位姿是否满足设定要求,若位姿满足,结束位姿调节,若不满足,位姿调节模块通过数学模型计算得到音圈直线电机所需要运行的距离,电机驱动器通过安装在直线电机运动行程范围内的光栅尺进行位置反馈,精确驱动电机运行,使并联机构进行浸没头位姿调节,最终按照精度要求,完成浸没头的位姿调节。
4.根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机浸没头位姿调节机构的控制方法,其特征在于:所述父系统通讯模块,通过开机初始化,和父系统建立通讯连接,控制系统软件通过接收并解析父系统的五种指令代号,进行相应的操作,并返回执行结果,同时当控制系统出现紧急或异常状况时,也能够主动向父系统报告当前运行状态。
5.根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机浸没头位姿调节机构的控制方法,其特征在于:所述其三自由度并联机构,该机构由运动平台、固定平台、三条并联运动支链组成,每条支链均包括两根连杆,一个移动副、一个球副和一个转动副,三条支链以固定平台为始端,各自与其靠近的连杆,一端的移动副能相对于固定平台进行垂直向平动,另一端与靠近运动平台的连杆通过球副首尾相连,实现绕三个轴的相对转动,各支链末端最后通过各自固定在运动平台上的转动副实现并联连接,运动平台相对于固定平台具有三个自由度,三个音圈直线电机分别驱动三个移动副,能实现位姿调节运动。
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