[发明专利]一种抛釉砖的制造方法及其产品有效
| 申请号： | 201410377858.X | 申请日： | 2014-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN104130032A | 公开（公告）日： | 2014-11-05 |
| 发明（设计）人： | 王华明 | 申请（专利权）人： | 佛山市东鹏陶瓷有限公司;丰城市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;广东东鹏陶瓷股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/89 | 分类号： | C04B41/89;C04B41/86 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬;韩国胜 |
| 地址： | 528031 广东省佛山市禅*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种抛釉砖的制造方法及其产品，方法包括如下步骤：A、将原料配料球磨进行喷雾造粒后压制形成砖坯，干燥后在所述砖坯上施底釉；B、在所述步骤A后的所述砖坯上印花并干燥后，施保护釉；C、素烧；D、在所述步骤C后的所述砖坯上再施上一层透明釉，然后干燥；E、将所述步骤D后的所述砖坯入窑烧制后使用非弹性模块进行抛磨后，包装入库。本发明的烧制后的产品并且由于印花层上的保护釉层与透明釉层厚度较厚和平整因而可以采用非弹性模块进行抛磨从而保证了其表面的超平和镜面效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛釉砖 制造 方法 及其 产品 | ||
【主权项】：
一种抛釉砖的制造方法，其特征在于，步骤依次包括：A、将陶瓷粉料压制形成砖坯，干燥后在所述砖坯上施底釉；B、印花并干燥后，施保护釉；C、素烧；D、施透明釉，然后干燥；E、烧制后使用非弹性模块进行抛磨。
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