[发明专利]用于沉积的掩模、掩模组件和形成掩模组件的方法在审
| 申请号： | 201410361099.8 | 申请日： | 2014-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN104342616A | 公开（公告）日： | 2015-02-11 |
| 发明（设计）人： | 高政佑 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C16/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 尹淑梅;韩芳 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 公开了一种用于沉积的掩模、掩模组件和形成掩模组件的方法，所述用于沉积的掩模包括：掩模主体，在第一方向上延伸，具有第一厚度，包括在第一方向上彼此相对并被框架支撑的端部，同时张力在第一方向上被施加到掩模；以及多个有效图案，在掩模主体的中心区域中在第一方向上彼此分隔，具有小于第一厚度的第二厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 模组 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种用于沉积的掩模，所述掩模包括：掩模主体，在第一方向上延伸，具有第一厚度，包括在第一方向上彼此相对并被框架支撑的端部，同时张力在第一方向上被施加到掩模；以及多个有效图案，在掩模主体的中心区域中在第一方向上彼此分离，具有小于第一厚度的第二厚度。
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