[发明专利]用于沉积的掩模、掩模组件和形成掩模组件的方法

权利要求书

1.一种用于沉积的掩模，所述掩模包括：

掩模主体，在第一方向上延伸，具有第一厚度，包括在第一方向上彼此相对并被框架支撑的端部，同时张力在第一方向上被施加到掩模；以及

多个有效图案，在掩模主体的中心区域中在第一方向上彼此分离，具有小于第一厚度的第二厚度。

2.根据权利要求1所述的掩模，所述掩模还包括第一虚设图案，位于所述多个有效图案中的在第一方向上的最外面的有效图案和掩模主体的端部之间，具有介于第一厚度和第二厚度之间的第三厚度。

3.根据权利要求1所述的掩模，所述掩模还包括多个第一虚设图案，位于所述多个有效图案中的在第一方向上的最外面的有效图案和掩模主体的端部之间，具有介于第一厚度和第二厚度之间的第三厚度。

4.根据权利要求2所述的掩模，其中，

多个有效开口限定在所述多个有效图案中的一个有效图案中，

多个第一虚设开口限定在第一虚设图案中，

相邻的有效开口之间的第一距离比相邻的第一虚设开口之间的第二距离小。

5.根据权利要求2所述的掩模，所述掩模还包括：

第二虚设图案，位于所述多个有效图案中的相邻的有效图案之间。

6.根据权利要求5所述的掩模，其中，

第二虚设图案具有第二厚度。

7.根据权利要求5所述的掩模，其中，

第二虚设图案具有第三厚度。

8.根据权利要求5所述的掩模，所述掩模还包括多个第二虚设图案，分别位于来自所述多个有效图案中的相邻的有效图案之间。

9.根据权利要求5所述的掩模，其中，

多个有效开口限定在所述多个有效图案中的有效图案中，

多个第二虚设开口限定在第二虚设图案中，以及

相邻的有效开口之间的第一距离小于相邻的第二虚设开口之间的第三距离。

10.一种掩模组件，所述掩模组件包括：

框架，开口限定在框架中；以及

根据权利要求1所述的掩模，其中，当在第一方向上彼此相对的掩模端部被框架支撑，同时在第一方向上对掩模施加张力时，所述多个有效图案与框架中的开口叠置。

11.根据权利要求10所述的掩模组件，所述掩模组件还包括在与第一方向交叉的第二方向上布置的多个掩模，其中，所述多个掩模的所述多个有效图案与框架中的开口叠置。

12.一种形成掩模组件的方法，所述方法包括：

设置开口限定在其中的框架；

布置与框架中的开口叠置的掩模的多个有效图案，并将掩模的相对的第一方向端部结合到框架，同时在第一方向上对掩模施加张力；

其中，所述掩模包括：

掩模主体，在第一方向上延伸，具有第一厚度；以及

所述多个有效图案，在掩模主体的中心区域中在第一方向上彼此分隔，具有小于第一厚度的第二厚度。

13.根据权利要求12所述的方法，所述方法还包括将多个掩模的相对的第一方向端部结合到框架，同时在第一方向上对所述多个掩模分别施加张力。

14.根据权利要求12所述的方法，其中，所述掩模还包括：

第一虚设图案，位于所述多个有效图案中的在第一方向上的最外面的有效图案和掩模主体的端部之间，具有介于第一厚度和第二厚度之间的第三厚度。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述掩模还包括：

第二虚设图案，位于所述多个有效图案中的相邻的有效图案之间，具有第二厚度或者第三厚度。