[发明专利]钼钠管型靶材及其制造方法和钼钠靶材在审

专利信息
申请号: 201410360172.X 申请日: 2014-07-25
公开(公告)号: CN104087903A 公开(公告)日: 2014-10-08
发明(设计)人: 王铁军;张凤戈;唐培新;姚伟;杨本润;姜海;陈锦;穆健刚;孟博 申请(专利权)人: 安泰科技股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;B22F5/12
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李景辉
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种钼钠管型靶材及其制造方法和钼钠靶材。其中,钼钠靶材,包含钼、钠两种金属元素,所述钼钠靶材的横截面上的微观结构中,存在富钠相的孤岛,其中,各孤岛的最大面积不大于1mm2。钼钠管型靶材的制造方法主要包括:混粉、压块、氢气烧结、热等静压处理、机械加工成品的工序制备出高纯度、高致密度钼钠管型靶材。本发明生产的磁控溅射钼钠管型靶材,成本低,靶材纯度高,密度高,成品尺寸大。
搜索关键词: 钼钠管型靶材 及其 制造 方法 钼钠靶材
【主权项】:
一种钼钠靶材,包含钼、钠两种金属元素,其特征在于,所述钼钠靶材的横截面上的微观结构中,存在富钠相的孤岛,其中,各孤岛的最大面积不大于1mm2
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