[发明专利]金属栅极结构的制作方法

摘要

本发明公开一种金属栅极结构的制作方法，包括首先提供基底，基底上设置有介电层，第一沟槽和第二沟槽设置介电层中，第一金属层和第二金属层分别填满第一沟槽和第二沟槽，其中该第一沟槽的宽度小于该第二沟槽的宽度。之后，形成掩模层，以完全覆盖第二沟槽。在掩模层的覆盖下，进行第一蚀刻制作工艺以去除部分第一金属层。最后进行第二蚀刻制作工艺，以同时去除部分第一金属层和部分第二金属层。

主权项

一种金属栅极结构的制作方法，包括：提供一基底，其上设置有一介电层，一第一沟槽设置于该介电层中，一第一金属层填满该第一沟槽，一第二沟槽设置于该介电层中，一第二金属层填满该第二沟槽，其中该第一沟槽的宽度小于该第二沟槽的宽度；形成一掩模层，完全覆盖住该第二沟槽；在该掩模层的覆盖下，进行一第一蚀刻制作工艺，以去除部分该第一金属层；以及在该第一蚀刻制作工艺之后，进行一第二蚀刻制作工艺，以同时去除部分该第一金属层和部分该第二金属层。