[发明专利]一种微晶铝化物涂层制备方法在审
| 申请号： | 201410339307.4 | 申请日： | 2014-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN105256272A | 公开（公告）日： | 2016-01-20 |
| 发明（设计）人： | 沈明礼;朱圣龙;王福会 | 申请（专利权）人： | 中国科学院金属研究所 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/48 |
| 代理公司： | 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 | 代理人： | 任玉龙 |
| 地址： | 110015 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种微晶铝化物涂层制备方法，其特征在于：制备过程在真空中进行；采用真空阴极电弧蒸发方法产生高密度等离子体；在工件上施加高频脉冲负偏压，使等离子体中金属离子注入到工件表层内部，并形成亚微米级晶粒的铝化物涂层。本发明的优点：涂层晶粒度达到亚微米级，抗高温腐蚀性能优于简单铝化物涂层；制备过程中不需要加热工件，对基体组织和力学性能影响小，并可减少能源消耗；涂层结构致密，结合力优于电子束物理气相沉积、磁控溅射和电弧离子镀的NiAl涂层；工艺性能和工业放大性优于电子束物理气相沉积、磁控溅射和电弧离子镀NiAl涂层。涂层质量稳定性好，生长速率高；工作环境好，不会产生环境污染问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微晶铝化物 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种微晶铝化物涂层制备方法，其特征在于：制备过程在真空中进行；采用真空阴极电弧蒸发方法产生高密度等离子体；在工件上施加高频脉冲负偏压，使等离子体中金属离子注入到工件表层内部，并形成亚微米级晶粒的铝化物涂层。
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