[发明专利]一种微晶铝化物涂层制备方法

权利要求书

1.一种微晶铝化物涂层制备方法，其特征在于：制备过程在真空中进行；采用真空阴极电弧蒸发方法产生高密度等离子体；在工件上施加高频脉冲负偏压，使等离子体中金属离子注入到工件表层内部，并形成亚微米级晶粒的铝化物涂层。

2.按照权利要求1所述的微晶铝化物涂层制备方法，其特征在于：所述的真空阴极电弧蒸发方法，使用纯铝或铝合金靶材，弧电流40～50A；所述铝合金中合金组元包括但不限于Si、Hf、Cr、Y、原子序数为57到71的15种镧系元素之一，或上述元素的组合，合金组元总含量为10ppm至15％，此值为原子比。

3.按照权利要求1所述的微晶铝化物涂层制备方法，其特征在于：所述的高频脉冲负偏压方法，偏压为-400～-1000V，占空比20～60％，频率5～100kHz。

4.按照权利要求1所述的微晶铝化物涂层制备方法，其特征在于：所述的真空，通氩气前背底真空度最优达到0.05Pa或更低，至少应达到5Pa，通氩气后真空度为6-40Pa。

5.按照权利要求1所述的微晶铝化物涂层制备方法，其特征在于：所述的微晶铝化物涂层的制备工艺过程，安装工件和靶材，真空室抽真空，通入氩气，在工件上施加高频脉冲负偏压，引燃真空阴极电弧，涂层达到所要求厚度后，关闭铝化物涂层制备系统，取出工件。