[发明专利]基于基片组装技术的逆反射膜无效
| 申请号： | 201410320355.9 | 申请日： | 2014-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN104133259A | 公开（公告）日： | 2014-11-05 |
| 发明（设计）人： | 袁长迎;竹文坤;张修路;罗雰 | 申请（专利权）人： | 西南科技大学 |
| 主分类号： | G02B5/124 | 分类号： | G02B5/124 |
| 代理公司： | 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 | 代理人： | 董芙蓉 |
| 地址： | 621010 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于基片组装技术的逆反射膜，其具有新型微立方角锥反光材料结构，这种结构是由许多基片组装而成。首先在基片一侧表面上加工出一列均匀等距、沿厚度方向排列、角度为90°的楔形槽，然后在与楔形槽相垂直的方向加工一楔形斜面，将一叠这样的基片按相同方向顺序排列，所有基片均向一个方向侧倾相同的角度，所有基片位于同样的水平高度，基片顶部的三维立方角锥结构延伸到二维水平面上，构成周期性阵列结构，该结构组成了加工制作钻石级反光材料的母模。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 组装 技术 逆反 | ||
【主权项】：
基于基片组装技术的逆反射膜，其特征在于：其具有微立方角锥反光材料结构，这种结构是由若干基片组装而成；首先在基片一侧表面上加工出一列均匀等距、沿厚度方向排列、角度为90°的楔形沟槽，然后在与楔形槽相垂直的方向加工一楔形斜面，将一叠这样的基片按相同方向顺序排列，所有基片均向一个方向侧倾相同的角度，所有基片位于同样的水平高度，基片顶部的三维立方角锥结构延伸到二维水平面上，构成周期性阵列结构。
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