[发明专利]基于基片组装技术的逆反射膜

权利要求书

1.基于基片组装技术的逆反射膜，其特征在于：

其具有微立方角锥反光材料结构，这种结构是由若干基片组装而成；

首先在基片一侧表面上加工出一列均匀等距、沿厚度方向排列、角度为90°的楔形沟槽，然后在与楔形槽相垂直的方向加工一楔形斜面，将一叠这样的基片按相同方向顺序排列，所有基片均向一个方向侧倾相同的角度，所有基片位于同样的水平高度，基片顶部的三维立方角锥结构延伸到二维水平面上，构成周期性阵列结构。

2.如权利要求1所述的基于基片组装技术的逆反射膜，其特征在于：

相邻两个所述楔形沟槽之间构成了一个立方角锥。

3.如权利要求2所述的基于基片组装技术的逆反射膜，其特征在于：

相邻两个所述立方角锥之间的横向距离用L₀表示，称为立方角锥单元的宽度；L₀与基片厚度H的比值(称为宽厚比)的取值范围为0.94±0.01。

4.如权利要求1-3任意一项所述的基于基片组装技术的逆反射膜，其特征在于：

所述楔形斜面与侧表面之间的夹角控制在145°±1°的范围之内。

5.如权利要求4所述的基于基片组装技术的逆反射膜，其特征在于：

加工产生楔形斜面以后，原来的立方角锥体的宽度变小为H₀，控制H₀与H的比值的取值范围为0.50±0.01。

6.如权利要求5所述的基于基片组装技术的逆反射膜，其特征在于：

所述基片相互之间精密相贴，不留缝隙；所述基片从竖直方向偏转同一个角度θ₁，θ₁的最佳取值范围为35°±1°。