[发明专利]基板处理装置

摘要

本发明提供基板处理装置。基板处理装置包括第一腔室，用第一处理液对基板进行处理，以及第二腔室，配置于上述第一腔室的后方，用第二处理液对上述基板进行处理；上述第一腔室具有第一外壳，第一输送单元，沿着第一方向输送上述基板，以及第一喷嘴单元，长度方向与上述第一方向相一致，并具有向上述基板供给上述第一处理液的第一喷嘴；上述第二腔室具有第二外壳，第二输送单元，沿着第一方向输送上述基板，以及第二喷嘴单元，长度方向与上述第一方向相一致，并具有向上述基板供给上述第二处理液的第二喷嘴；上述第一喷嘴和上述第二喷嘴配置成相互间脱离一直线。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于，包括：第一腔室，其用第一处理液对基板进行处理；第二腔室，其配置于上述第一腔室的后方，用第二处理液对上述基板进行处理；上述第一腔室具有：第一外壳，第一输送单元，其沿着第一方向输送上述基板，以及第一喷嘴单元，其长度方向与上述第一方向相一致，并具有向上述基板供给上述第一处理液的第一喷嘴；上述第二腔室具有：第二外壳，第二输送单元，其沿着上述第一方向输送上述基板，以及第二喷嘴单元，其长度方向与上述第一方向相一致，并具有向上述基板供给上述第二处理液的第二喷嘴；上述第一喷嘴和上述第二喷嘴被配置成相互间脱离一直线；上述基板处理装置还包括位于上述第二腔室的后方的洗涤腔室，该洗涤腔室具有：第三外壳；第三输送单元，其沿着上述第一方向输送上述基板；供液喷嘴，其向上述基板的上部供给洗涤液；正向刀，其以与流入口相邻的方式配置于上述第三外壳的内部，具有以随着远离上述第二外壳而向下倾斜的方式设置的排出口，并向上述基板喷射上述洗涤液；以及反向刀，其相比正向刀配置于下游，具有以随着接近上述流入口而向下倾斜的方式设置的排出口，且向上述基板喷射上述洗涤液。