[发明专利]通过重复曝光改进光刻胶形貌的方法

摘要

本发明公开了一种通过重复曝光改进光刻胶形貌的方法。该方法解决了光刻厚胶工艺中，光刻胶侧壁难以实现具有底切结构的形貌的难题，同时具有成本低、实施性强等优点。根据本发明的方法包括：涂覆第一光刻胶并进行前烘，所述第一光刻胶仅对第一波长的光感光；涂覆第二光刻胶并进行前烘，所述第二光刻胶仅对第二波长的光感光，且所述第二波长不同于所述第一波长；使用第一波长的光对所述第一光刻胶进行曝光；使用第二波长的光对所述第二光刻胶进行曝光；对曝光后的第一光刻胶和第二光刻胶进行显影，其中设置曝光条件，使得在显影后第一光刻胶的尺寸小于第二光刻胶的尺寸。

主权项

1.一种重复曝光光刻胶的方法，包括：涂覆第一光刻胶并进行前烘，所述第一光刻胶仅对第一波长的光感光；涂覆第二光刻胶并进行前烘，所述第二光刻胶仅对第二波长的光感光，且所述第二波长不同于所述第一波长；使用第一波长的光对所述第一光刻胶进行曝光；使用第二波长的光对所述第二光刻胶进行曝光；对曝光后的第一光刻胶和第二光刻胶进行显影，其中设置曝光条件，使得在显影后第一光刻胶的尺寸小于第二光刻胶的尺寸,其中，所述第一光刻胶和第二光刻胶为正性光刻胶，在对所述第一光刻胶进行曝光时，加大曝光能量，使得第一光刻胶过曝光，从而显影后的第一光刻胶的尺寸小于设计尺寸，在对所述第二光刻胶进行曝光时，利用所述第二光刻胶的最佳曝光条件，使得显影后的第二光刻胶的尺寸等于设计尺寸。