[发明专利]一种柔性薄膜晶体管有效

专利信息
申请号: 201410276830.7 申请日: 2014-06-19
公开(公告)号: CN104051652A 公开(公告)日: 2014-09-17
发明(设计)人: 寇浩 申请(专利权)人: 上海和辉光电有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 王芝艳;邹宗亮
地址: 201500 上海市金山区*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种柔性薄膜晶体管,包括:柔性基板;阻挡层,设置于所述柔性基板之上;栅极,设置于所述阻挡层之上;栅极绝缘层,设置于所述阻挡层之上并覆盖所述栅极;有源半导体层,设置于所述栅极绝缘层之上;以及源/漏电极,设置于所述有源半导体层之上并与所述有源半导体层电接触,其中所述阻挡层为包括氮化硅层、氧化硅层和氧化铝层的层叠结构。本发明的柔性薄膜晶体管在阻挡层中加入具有优异阻水/氧性能且缺陷极少的氧化铝层,利用氧化铝层具有较低应力的特性同时形成多层层叠的阻挡层结构,从而缓解薄膜的内应力的积累和叠加,改善了阻挡层与柔性基板的附着性,进而减少薄膜出现脱落的现象。
搜索关键词: 一种 柔性 薄膜晶体管
【主权项】:
一种柔性薄膜晶体管,包括:柔性基板;阻挡层,设置于所述柔性基板之上;栅极,设置于所述阻挡层之上;栅极绝缘层,设置于所述阻挡层之上并覆盖所述栅极;有源半导体层,设置于所述栅极绝缘层之上;以及源/漏电极,设置于所述有源半导体层之上并与所述有源半导体层电接触,其中所述阻挡层为包括氮化硅层、氧化硅层和氧化铝层的层叠结构。
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