[发明专利]一种针对含硅铝合金电解抛光配方和工艺

摘要

本发明公开了一种针对含硅铝合金电解抛光配方和工艺,针对含硅量超过2%铝合金的表面处理,将处理干净的含硅铝合金工件放入装有电解液的电解槽内，电解液温度控制在30‑‑60℃，采用恒流或恒压进行电解抛光，恒流法时平均电流密度为3‑10A/ dm2，恒压法时电压30‑60V,通电时间3‑15分钟，然后水洗、吹干即可得到高光泽的表面。本发明的优点是解决了含硅量高的铝合金通过化学抛光无法获得光亮表面的难题，通过发明的电解液和利用传统电抛光流程即可得到高光泽的表面,提高了铸造铝合金表面的装饰效果，同时本发明采用的抛光电流密度比一般电解抛光低,能耗低,具有更好的运用价值。

主权项

一种针对含硅铝合金电解抛光方法，其特征是方法步骤如下：（1）将含硅铝合金工件上挂，挂具采用铝合金或钛合金,保证接触良好,经过除油处理，得到无油的表面，水清洗干净；（2）用铝合金或钛合金挂具固定好，放入装有研制电解液的电解槽，电解液温度控制在30—60摄氏度,采用恒流或恒压进行电化学抛光，通电时间3‑15分钟；所述电解液配方的组份和含量为：85%以上的单乙醇胺体积比60‑75%，40%含量的氢氟酸体积比25‑40%，配置电解液时pH值控制在4‑7；采用电流进行抛光，平均电流密度为3‑10A/dm2；采用恒压进行抛光，电压控制在30‑60V；（3）在抛光时,采用循环泵搅拌电解液，电解抛光结束后，断电后将工件取出，进行冷水洗和热水洗；（4）水洗后压缩空气吹干下挂。