[发明专利]一种针对含硅铝合金电解抛光配方和工艺有效
| 申请号： | 201410275239.X | 申请日： | 2014-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN104032365B | 公开（公告）日： | 2017-04-19 |
| 发明（设计）人： | 邵志松;周韦;曹经倩;史少欣 | 申请（专利权）人： | 南昌航空大学 |
| 主分类号： | C25F3/20 | 分类号： | C25F3/20 |
| 代理公司： | 南昌洪达专利事务所36111 | 代理人： | 刘凌峰 |
| 地址： | 330000 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 针对 铝合金 电解 抛光 配方 工艺 | ||
【权利要求书】：
1.一种针对含硅铝合金电解抛光方法，其特征是方法步骤如下：
（1）将含硅铝合金工件上挂，挂具采用铝合金或钛合金,保证接触良好,经过除油处理，得到无油的表面，水清洗干净；
（2）用铝合金或钛合金挂具固定好，放入装有研制电解液的电解槽，电解液温度控制在30—60摄氏度,采用恒流或恒压进行电化学抛光，通电时间3-15分钟；所述电解液配方的组份和含量为：85%以上的单乙醇胺体积比60-75%，40%含量的氢氟酸体积比25-40%，配置电解液时pH值控制在4-7；采用电流进行抛光，平均电流密度为3-10A/dm2；采用恒压进行抛光，电压控制在30-60V；
（3）在抛光时,采用循环泵搅拌电解液，电解抛光结束后，断电后将工件取出，进行冷水洗和热水洗；
（4）水洗后压缩空气吹干下挂。
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