[发明专利]测量方法、载台装置、及曝光装置有效

专利信息
申请号: 201410270424.X 申请日: 2008-07-16
公开(公告)号: CN104111587B 公开(公告)日: 2017-01-11
发明(设计)人: 荒井大 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01B11/02
代理公司: 北京市金杜律师事务所11256 代理人: 陈伟
地址: 日本东京都千 *** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一能减低周围气体的折射率变动的影响、以提高载台的定位精度等的曝光装置。一种曝光装置,是通过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上的晶圆(W)照射曝光用照明光,而在晶圆(W)形成既定图案。该曝光装置具备:设置于晶圆载台(WST)的标尺;用以检测该标尺的位置资讯的多个X读头(66);一体支撑多个X读头(66),且线膨胀系数较晶圆载台(WST)的本体部小的测量框架(21);从多个X读头(66)的检测结果求出晶圆载台(WST)的位移资讯的控制装置。
搜索关键词: 测量方法 装置 曝光
【主权项】:
一种测量方法,是测量载台相对既定构件的位移资讯,其特征在于其具有:在该既定构件设置标尺,在该载台设置可检测该标尺的多个检测器的步骤;以线膨胀系数较该载台小的支撑构件支撑设置于该既定构件的该标尺的步骤;将该支撑构件以可位移于沿该标尺表面的方向的状态连结于基座构件的步骤;以及从该多个检测器的检测结果测量该载台的位移资讯的步骤;该既定构件具有线膨胀系数较该支撑构件大的该基座构件。
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