[发明专利]测量方法、载台装置、及曝光装置有效
| 申请号: | 201410270424.X | 申请日: | 2008-07-16 |
| 公开(公告)号: | CN104111587B | 公开(公告)日: | 2017-01-11 |
| 发明(设计)人: | 荒井大 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01B11/02 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 陈伟 |
| 地址: | 日本东京都千 *** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 测量方法 装置 曝光 | ||
1.一种测量方法,是测量载台相对既定构件的位移资讯,其特征在于其具有:
在该既定构件设置标尺的步骤;
以线膨胀系数较该载台小的支撑构件支撑可检测该标尺的多个检测器并设置于该载台的步骤;以及
从该多个检测器的检测结果测量该载台的位移资讯的步骤。
2.根据权利要求1所述的测量方法,其特征在于其中,该支撑构件的线膨胀系数较因钢小。
3.根据权利要求1所述的测量方法,其特征在于其中,该既定构件具有线膨胀系数较该支撑构件大的基座构件;且具有将该支撑构件以可位移于沿该标尺表面的方向的状态连结于该基座构件的步骤。
4.根据权利要求2所述的测量方法,其特征在于其中,该既定构件具有线膨胀系数较该支撑构件大的基座构件;且具有将该支撑构件以可位移于沿该标尺表面的方向的状态连结于该基座构件的步骤。
5.根据权利要求4所述的测量方法,其特征在于其中,该支撑构件,是在相对该基座构件在既定基准位置不位移的状态通过气体轴承连结于该基座构件。
6.根据权利要求5所述的测量方法,其特征在于其中,该支撑构件,是以能在第1点旋转、且能在第2点在连结该第1点与该第2点的方向位移的方式连结于该基座构件。
7.根据权利要求1所述的测量方法,其特征在于其中,该标尺包含被该支撑构件支撑的多个标尺部;
该多个标尺部,分别具有相对该既定构件为静止的固定点。
8.根据权利要求2所述的测量方法,其特征在于其中,该标尺包含被该支撑构件支撑的多个标尺部;
该多个标尺部,分别具有相对该既定构件为静止的固定点。
9.根据权利要求4所述的测量方法,其特征在于其中,该支撑构件,是通过前端部可在沿该标尺表面的方向位移的多个挠曲构件连结于该基座构件。
10.根据权利要求9所述的测量方法,其特征在于其中,该挠曲构件是棒状构件或在棒状构件一部分形成有槽部的构件。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的测量方法,其特征在于其中,具有使该支撑构件相对具有该载台的导引面的导引构件在振动上分离而支撑的步骤。
12.根据权利要求11所述的测量方法,其特征在于其中,具有抑制该支撑构件相对该导引构件位移的步骤。
13.根据权利要求1至10中任一项所述的测量方法,其特征在于其中,在该支撑构件设置干涉仪的至少一部分光学构件;
且具有藉由该干涉仪测量该载台相对该支撑构件的位移资讯的步骤。
14.根据权利要求1至10中任一项所述的测量方法,其特征在于其中,是在该支撑构件设置用以流通气体的多个开口;
且具有从该支撑构件上方向该载台以降流方式通过该开口喷吹气体的步骤。
15.根据权利要求1至10中任一项所述的测量方法,其特征在于其中,该标尺包含绕射光栅状的周期图案;
该检测器,是接收对该周期图案照射检测光而自该周期图案产生的多个绕射光的干涉光。
16.一种测量方法,其特征在于,是以多个检测器检测设置于可动构件的标尺,以测量该可动构件的位移资讯,其具有:
以支撑构件一体支撑该多个检测器的步骤;以及
从该多个检测器的检测结果测量该可动构件的位移资讯的步骤;
该支撑构件,是通过前端部可在相对基座构件沿该标尺表面的方向位移的多个挠曲构件,连结于线膨胀系数较该支撑构件大的该基座构件。
17.一种载台装置,其特征在于,可将载台相对既定构件定位,其具备:
设置于该既定构件的标尺;以及
支撑设置于该载台并检测与该标尺位置相关的资讯的多个检测器,且线膨胀系数较该载台小的支撑构件;
从该多个检测器的检测结果求出该载台的位移资讯的控制装置。
18.根据权利要求17所述的载台装置,其特征在于其中,该支撑构件的线膨胀系数较因钢小。
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