[发明专利]电感耦合型等离子体处理腔室及其抗腐蚀绝缘窗口及制造方法在审
| 申请号： | 201410222472.1 | 申请日： | 2014-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN105088141A | 公开（公告）日： | 2015-11-25 |
| 发明（设计）人： | 贺小明;倪图强 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C16/513;C04B41/85 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了电感耦合型等离子体处理腔室及其抗腐蚀绝缘窗口及制造方法，其中，所述绝缘窗口上利用增强型物理或者化学气相沉积在其面对等离子体的一面涂覆抗腐蚀涂层，所述涂覆了抗腐蚀涂层的绝缘窗口进行了热处理步骤。其中，所述热处理步骤包括热退火步骤。本发明制造的抗腐蚀层厚度高，质地均匀，结构稳定，应力较低，不会破裂。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 等离子体 处理 及其 腐蚀 绝缘 窗口 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种抗腐蚀的电感耦合型等离子体处理腔室的绝缘窗口，其特征在于：所述绝缘窗口上利用等离子体增强型物理或化学气相沉积在其面对等离子体的一面涂覆抗腐蚀涂层，所述涂覆了抗腐蚀涂层的绝缘窗口进行了热处理步骤。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中微半导体设备（上海）有限公司，未经中微半导体设备（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410222472.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种镀膜装置
- 下一篇：具有含氧化物涂层的涂层刀具及其制备方法
- 同类专利
- 专利分类
