[发明专利]等离子体反应器及清除等离子体反应腔室颗粒污染的方法

摘要

本发明公开了一种等离子体反应器及清除等离子体反应腔室颗粒污染的方法。该等离子体反应器包括喷头电极，围绕喷头电极设置有吸附负电颗粒的装置。该方法包括以下步骤：通过围绕等离子体反应腔室内的喷头电极设置的吸附负电颗粒的装置来吸附负电颗粒。本发明的发明人发现，等离子体反应腔室内造成污染的颗粒绝大数是带负电的颗粒，因此，应用本发明的技术方案，围绕喷头电极设置吸附负电颗粒的装置，就可以有效的将造成污染的颗粒吸附清除。

主权项

1.一种等离子体反应器，包括喷头电极，其特征在于，围绕所述喷头电极设置有吸附负电颗粒的装置；所述吸附负电颗粒的装置为能够加载正偏压的多孔金属‑陶瓷环；所述多孔金属‑陶瓷环通过以下工艺制备得到：将氧化铝粉末和氧化镍粉末以重量比为4:6～5:5的比例与有机溶剂、造孔剂、分散剂、粘合剂、增塑剂混合，得到的混合物粘度为2.5～6PA·S；将所述混合物放入模具中制得模型；以及将所述模型在1400℃～1550℃烧结得到所述多孔金属‑陶瓷环。