[发明专利]键合结构及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201410199435.3 申请日: 2014-05-12
公开(公告)号: CN105097743B 公开(公告)日: 2019-02-12
发明(设计)人: 周鸣 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L23/488 分类号: H01L23/488;H01L21/60
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 吴贵明;张永明
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 本申请公开了一种键合结构及其形成方法,该键合结构包括:键合层,键合层包括键合金属和晶粒细化材料,晶粒细化材料用于细化键合金属的晶粒。本申请为了解决现有技术中的键合层的机械强度较差的问题,使键合层包括键合金属和用于细化键合金属晶粒的晶粒细化材料,这样,便可以使键合金属的晶粒细化,进而可以提高键合层的机械强度,使得键合层的结构更加稳固,有效地避免了出现键合结构的键合层容易松动、脱落的问题。
搜索关键词: 结构 及其 形成 方法
【主权项】:
1.一种键合结构,其特征在于,包括:键合层,所述键合层包括键合金属和晶粒细化材料,所述晶粒细化材料用于细化所述键合金属的晶粒;所述键合层由所述键合金属和所述晶粒细化材料分层设置而成,且所述键合结构包括多层所述键合层;载体层,所述键合层设置在所述载体层上;其中,所述载体层包括粘附层和介质层,所述粘附层设置在所述介质层上,且所述键合层设置在所述粘附层上;所述键合结构包括2至10层所述键合层。
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