[发明专利]一种用于氧化物材料体系的蚀刻液及其蚀刻方法和应用有效
申请号: | 201410191479.1 | 申请日: | 2014-05-07 |
公开(公告)号: | CN103980905B | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
发明(设计)人: | 范冰丰;王钢;童存声 | 申请(专利权)人: | 佛山市中山大学研究院 |
主分类号: | C09K13/06 | 分类号: | C09K13/06;C09K13/00;C09K13/12;H01B13/00 |
代理公司: | 深圳市惠邦知识产权代理事务所44271 | 代理人: | 孙菊梅 |
地址: | 528200 广东省佛山市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于氧化物材料体系的蚀刻液,该蚀刻液包括氧化物蚀刻溶液、起到稠度调节作用的调节剂以及水;同时本发明还公开了上述蚀刻液的蚀刻方法及应用。本发明公开的蚀刻液和蚀刻方法可普遍适用于Sn、Zn、Al、Ga、In基及其合金氧化物薄膜材料刻蚀,尤其是ZnO、AZO、GZO、IGZO、IZO等氧化物材料的刻蚀,也可广泛的用于制备精细电子部件中氧化物材料的刻蚀,例如半导体光电器件、太阳能电池、TFT薄膜晶体管、半导体集成电路和透明电极等。本发明的蚀刻液相较于传统的刻蚀液,其具有抑制侧蚀、防止刻蚀不均以及防止刻蚀残留的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 氧化物 材料 体系 蚀刻 及其 方法 应用 | ||
【主权项】:
一种用于氧化物材料体系的蚀刻液,其特征在于:以重量计,所述蚀刻液中含有,0.01‑80wt%的磷酸盐溶液;0.1‑80wt%的聚乙二醇调节剂;余量的水。
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