[发明专利]超低阻值电阻及其制造方法有效
| 申请号： | 201410187793.2 | 申请日： | 2014-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN104347201B | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 蔡宜兴 | 申请（专利权）人： | 蔡宜兴 |
| 主分类号： | H01C7/00 | 分类号： | H01C7/00;H01C17/242 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所31272 | 代理人： | 吴俊 |
| 地址： | 中国台湾高雄市80*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种超低阻值电阻及其制造方法，用以改善已知超低阻值电阻的生产良率过低的问题，该超低阻值电阻的制造方法包含利用一冲模模具对一板材进行冲膜，使该板材上成型产生数个基板，该基板具有一封装区域，且该封装区域的二端分别形成二端部；分别于各该基板的封装区域外周包覆一封装体；透过一显微摄影装置拍摄取得该板材的影像，再以一运算单元加载该板材的影像并执行影像分析运算，定位各该封装体的位置；该运算单元将各该封装体与一样本影像进行比对，并判定各该封装体超出该样本影像的部分为需要去除的冗余区块；依据各该封装体的冗余区块设定一雷射切割机台的雷射轨迹，由该雷射切割机台切削去除各该封装体的冗余区块，以在该封装体上产生至少一雷射切削表面；及将各该基板自该板材上冲膜分离，并且分别于各该基板的二端部结合一导电层以作为端电极。 | ||
| 搜索关键词： | 阻值 电阻 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种超低阻值电阻制造方法，其特征在于，包含：利用一冲模模具对一板材进行冲膜，使该板材上成型产生数个基板，该基板具有一封装区域，且该封装区域的二端分别形成二端部；分别于各该基板的封装区域外周包覆一封装体；通过一显微摄影装置拍摄取得该板材的影像，再以一运算单元加载该板材的影像并执行影像分析运算，定位各该封装体的位置；该运算单元将各该封装体与一样本影像进行比对，并判定各该封装体超出该样本影像的部分为需要去除的冗余区块；依据各该封装体的冗余区块设定一雷射切割机台的雷射轨迹，由该雷射切割机台切削去除各该封装体的冗余区块，以在该封装体上产生至少一雷射切削表面；及将各该基板自该板材上冲膜分离，并且分别于各该基板的二端部结合一导电层以作为端电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于蔡宜兴，未经蔡宜兴许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410187793.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
