[发明专利]一种超平厚抛釉及超平厚抛釉瓷质砖的制造方法有效
申请号: | 201410185336.X | 申请日: | 2014-05-05 |
公开(公告)号: | CN104003759A | 公开(公告)日: | 2014-08-27 |
发明(设计)人: | 陈奕;饶培文;梁志雄;程科恺 | 申请(专利权)人: | 广东道氏技术股份有限公司 |
主分类号: | C04B41/86 | 分类号: | C04B41/86 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 郑莹 |
地址: | 529441 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种超平厚抛釉,釉由熔块和生料组成,熔块与生料的质量比为(10~30):100。本发明的超平厚抛釉由高温流动性好的熔块和部分生料组成,使釉面在高温下快速地流平,熔融性能良好;再通过不同材料的搭配,使得釉面高温粘度小,便于釉层气体排出,保证釉面的平滑效果和釉层气泡较小较少。检测结果显示,使用本发明超平厚釉制造得到的超平厚抛釉瓷质砖,1.6mm直径视域内气泡个数仅为1~3个,气泡直径仅为0.02mm~0.06mm,气泡少且小,釉层通透感更好;超平厚抛釉抛光后光泽度可达105度~110度,高于普通全抛釉的95度~100度。 | ||
搜索关键词: | 一种 超平厚抛釉 超平厚抛釉瓷质砖 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种超平厚抛釉,由熔块和生料组成,其特征在于:熔块与生料的质量比为(10~30):100。
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