[发明专利]用于检测STI结构的电隔离性能的检测结构和检测方法有效

专利信息
申请号: 201410172644.9 申请日: 2014-04-25
公开(公告)号: CN105097779B 公开(公告)日: 2017-12-19
发明(设计)人: 殷登平;许广勤 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L23/544 分类号: H01L23/544;H01L21/66
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 代理人: 吴贵明,张永明
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请公开了一种用于检测STI结构的电隔离性能的检测结构以及用于检测STI结构的电隔离性能的检测方法,其中用于检测STI结构的电隔离性能的检测结构包括第一检测电极,第一检测电极垂直于待测试的STI结构的长度方向设置;连接电极,连接电极垂直于STI结构的长度方向设置,连接电极的沿垂直于反型层的方向的结构包括设置在反型层的表面的绝缘层和设置在绝缘层上的电极材料层,当电极材料层加载电压时,绝缘层下方的反型层内形成反转层;第二检测电极,第二检测电极设置在反型层内,且与加载电压时所形成的反转层电连接;第一检测电极与连接电极之间具有一个待检测的STI结构。本申请的检测结构能够承受更高的电压,能够得到更真实准确的击穿电压数据。
搜索关键词: 用于 检测 sti 结构 隔离 性能 方法
【主权项】:
一种用于检测STI结构的电隔离性能的检测结构,其特征在于,包括:第一检测电极(11),所述第一检测电极(11)垂直于待测试的STI结构(100)的长度方向设置;连接电极(21),所述连接电极(21)垂直于所述STI结构(100)的长度方向设置,所述连接电极(21)的沿垂直于反型层(200)的方向的结构包括设置在所述反型层(200)的表面的绝缘层(212)和设置在所述绝缘层(212)上的电极材料层(211),当所述电极材料层(211)加载电压时,所述绝缘层(212)下方的所述反型层(200)内形成反转层(213);第二检测电极(30),所述第二检测电极(30)设置在所述反型层(200)内,且与加载电压时所形成的所述反转层(213)电连接;所述第一检测电极(11)与所述连接电极(21)之间具有一个待检测的STI结构(100);所述第一检测电极(11)和所述STI结构(100)均设置在所述反型层(200)内,所述STI结构(100)的上表面与设置有所述连接电极(21)的所述反型层(200)的上表面平齐。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410172644.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top