[发明专利]薄膜晶体管有效
申请号: | 201410142538.6 | 申请日: | 2014-04-10 |
公开(公告)号: | CN104241391B | 公开(公告)日: | 2019-03-05 |
发明(设计)人: | 姜一俊;曹煐美 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L29/221 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 王峰;王珍仙 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及薄膜晶体管。所述薄膜晶体管包括在基板上布置的栅电极;在所述基板上布置的栅绝缘层;在所述基板上布置的半导体层,所述栅绝缘层被配置为使所述半导体层和所述栅电极彼此绝缘;在所述基板上布置的源电极;以及在所述基板上布置的漏电极。所述氧化物半导体包括锌(Zn)、锡(Sn),以及Ag和Au的至少一种。在薄膜晶体管的Zn‑Sn‑O半导体层中Ag和/或Au的使用可以提高该薄膜晶体管的电子迁移率。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管,包括:在基板上布置的栅电极;在所述基板上布置的栅绝缘层;在所述基板上布置的半导体层,所述栅绝缘层被配置为使所述半导体层和所述栅电极彼此绝缘;在所述基板上布置的源电极;以及在所述基板上布置的漏电极,其中所述半导体层包括:锌Zn,锡Sn,以及Ag和Au中的至少一种元素M,其中所述半导体层中的有效电子质量在0.220m0至0.244m0的范围内,其中m0=9.11×10‑31kg。
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