[发明专利]一种刻蚀设备的边缘环有效

专利信息
申请号: 201410127029.6 申请日: 2014-03-31
公开(公告)号: CN103887138B 公开(公告)日: 2017-01-18
发明(设计)人: 江森林;阚保国 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/67
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31275 代理人: 吴世华,林彦之
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种刻蚀设备的边缘环,将现有边缘环上表面的水平平面,改进为向下倾面结构,改变了流经气流的走向,克服了原有边缘环上表面的平面结构对气流的阻碍作用,使刻蚀生成物在腔体内沿倾面转折气流的带动下,可沿边缘环的下倾面很容易被分子泵抽吸带走,解决了刻蚀生成物在原有边缘环上表面易堆积并剥离的问题,使机台的清洗周期得到保证,提高了生产率。同时,也明显减轻了因聚合物剥离、造成对腔体的污染风险,保证了良率的达成。
搜索关键词: 一种 刻蚀 设备 边缘
【主权项】:
一种刻蚀设备的边缘环,水平设置在所述刻蚀设备腔体内的阴极上方并遮蔽所述阴极,所述边缘环具有上、下表面和竖直等高侧面,所述边缘环设有环绕衬底的中心通孔,所述通孔位于所述边缘环上表面的孔口设有汇聚射频能量的同心上台阶孔,所述通孔位于所述边缘环下表面的孔口设有容纳衬底固定机构的同心下台阶孔,其特征在于,所述刻蚀设备下方设有分子泵,所述腔体内的气流形成自所述腔体上方向下、由所述边缘环上表面中心向外、并沿所述边缘环的轮廓从所述侧面与所述腔体之间的间隙向下的流向,并通过所述分子泵排出;所述边缘环的上表面具有向所述侧面方向的向下倾面,所述倾面引导所述腔体内流经的气流,沿所述倾面向下方转折,并从所述边缘环侧面与所述腔体之间的间隙向下通过所述分子泵排出;其中,所述倾面包括外弧面,所述外弧面起于所述边缘环的所述同心上台阶孔孔口,并与所述边缘环的所述侧面相切,所述外弧面的最高点位于所述同心上台阶孔的孔口处。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410127029.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top