[发明专利]一种刻蚀设备的边缘环有效
| 申请号: | 201410127029.6 | 申请日: | 2014-03-31 |
| 公开(公告)号: | CN103887138B | 公开(公告)日: | 2017-01-18 |
| 发明(设计)人: | 江森林;阚保国 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31275 | 代理人: | 吴世华,林彦之 |
| 地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 刻蚀 设备 边缘 | ||
1.一种刻蚀设备的边缘环,水平设置在所述刻蚀设备腔体内的阴极上方并遮蔽所述阴极,所述边缘环具有上、下表面和竖直等高侧面,所述边缘环设有环绕衬底的中心通孔,所述通孔位于所述边缘环上表面的孔口设有汇聚射频能量的同心上台阶孔,所述通孔位于所述边缘环下表面的孔口设有容纳衬底固定机构的同心下台阶孔,其特征在于,所述刻蚀设备下方设有分子泵,所述腔体内的气流形成自所述腔体上方向下、由所述边缘环上表面中心向外、并沿所述边缘环的轮廓从所述侧面与所述腔体之间的间隙向下的流向,并通过所述分子泵排出;所述边缘环的上表面具有向所述侧面方向的向下倾面,所述倾面引导所述腔体内流经的气流,沿所述倾面向下方转折,并从所述边缘环侧面与所述腔体之间的间隙向下通过所述分子泵排出。
2.如权利要求1所述的边缘环,其特征在于,所述边缘环的上表面具有向所述侧面方向的向下倾面,所述倾面为斜面。
3.如权利要求2所述的边缘环,其特征在于,所述斜面起于所述边缘环的所述台阶孔孔口,并与所述边缘环的所述侧面相交。
4.如权利要求2所述的边缘环,其特征在于,所述斜面起于所述边缘环的所述台阶孔孔口与所述侧面之间的中心位置,并与所述边缘环的所述侧面相交。
5.如权利要求2所述的边缘环,其特征在于,所述斜面的起点位于所述边缘环的所述台阶孔孔口至所述边缘环的所述台阶孔孔口与所述侧面之间的中心位置之间的任意一点,并与所述边缘环的所述侧面相交。
6.如权利要求3所述的边缘环,其特征在于,所述斜面与水平面的夹角为10~30度。
7.如权利要求4所述的边缘环,其特征在于,所述斜面与水平面的夹角为30~45度。
8.如权利要求5所述的边缘环,其特征在于,所述斜面与水平面的夹角为10~45度,且所述斜面与所述侧面的交点位于所述边缘环的水平中心线位置之上。
9.如权利要求1所述的边缘环,其特征在于,所述边缘环的上表面具有向所述侧面方向的向下倾面,所述倾面为外弧面,所述弧面起于所述边缘环的所述台阶孔孔口,并与所述边缘环的所述侧面相切,所述弧面的最高点位于所述台阶孔的孔口处。
10.如权利要求9所述的边缘环,其特征在于,所述弧面为椭圆面或抛物面,所述椭圆面的椭圆形长轴或所述抛物面的抛物线对称轴与水平面平行,所述弧面与所述侧面的相切点位于所述边缘环的水平中心线位置之上。
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