[发明专利]用于周期性光刻图形尺寸监控的方法有效
| 申请号： | 201410126862.9 | 申请日： | 2014-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN103852976A | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 陈起伟;魏臻;孙智江;施荣华 | 申请（专利权）人： | 海迪科(苏州)光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215131 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于周期性光刻图形尺寸监控的方法，包括如下步骤：S1：调整自动光学检测设备的灰阶参数，对曝光显影后的晶圆的胶柱进行灰度测试，通过将胶柱表面反射回来的光进行灰阶运算得到灰度值；S2：对所述的胶柱进行尺寸测量得到尺寸值；S3：建立灰度值与尺寸值间的对应关系；S4：逐片进行扫描曝光显影后的晶圆；S5：将胶柱的灰度值实时通过对应关系输出为尺寸值。由于采用了以上技术方案，使得在蓝宝石图形化衬底领域可以将黄光蚀刻步骤后的检测步骤得以简化，提高了生产效率，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 周期性 光刻 图形 尺寸 监控 方法 | ||
【主权项】：
一种用于周期性光刻图形尺寸监控的方法，其特征在于，包括如下步骤：S1：调整自动光学检测设备的灰阶参数，对曝光显影后的晶圆的胶柱进行灰度测试，通过将胶柱表面反射回来的光进行灰阶运算得到灰度值；S2：对所述的胶柱进行尺寸测量得到尺寸值；S3：建立灰度值与尺寸值间的对应关系；S4：逐片进行扫描曝光显影后的晶圆；S5：将胶柱的灰度值实时通过对应关系输出为尺寸值。
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