[发明专利]用于周期性光刻图形尺寸监控的方法

权利要求书

1.一种用于周期性光刻图形尺寸监控的方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1：调整自动光学检测设备的灰阶参数，对曝光显影后的晶圆的胶柱进行灰度测试，通过将胶柱表面反射回来的光进行灰阶运算得到灰度值；

S2：对所述的胶柱进行尺寸测量得到尺寸值；

S3：建立灰度值与尺寸值间的对应关系；

S4：逐片进行扫描曝光显影后的晶圆；

S5：将胶柱的灰度值实时通过对应关系输出为尺寸值。

2.根据权利要求1所述的用于周期性光刻图形尺寸监控的方法，其特征在于：所述的步骤S1、S2中随机选取多个胶柱进行灰度值与尺寸值的测量。

3.根据权利要求1所述的用于周期性光刻图形尺寸监控的方法，其特征在于：所述的步骤S1、S2.中针对同一胶柱多次测量后取平均值。

4.根据权利要求1所述的用于周期性光刻图形尺寸监控的方法，其特征在于：所述的步骤S1中调整自动光学检测设备的灰阶参数以使不同尺寸的胶柱在灰阶范围内均匀分布。

5.根据权利要求1所述的用于周期性光刻图形尺寸监控的方法，其特征在于：所述的步骤S2中，通过3D光学显微镜或SEM设备对晶圆进行尺寸测量。

6.根据权利要求1所述的用于周期性光刻图形尺寸监控的方法，其特征在于：所述的步骤S5包括设定尺寸值的阈值的步骤，当检测到超出阈值范围的尺寸值时，输出提示信号并记录位置信息。