[发明专利]一种提高工艺适应性的调焦调平系统有效
| 申请号： | 201410070496.X | 申请日： | 2014-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN104880913B | 公开（公告）日： | 2017-06-27 |
| 发明（设计）人： | 王诗华 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种提高工艺适应性的调焦调平系统，包括一照明单元，用于产生一照明光束，该照明单元包括若干投影狭缝阵列；一投影单元，用于将该投影狭缝阵列投影至一待测物表面，根据该待测物表面所形成的多个测量光斑；一探测单元，用于该测量光斑成像至一探测狭缝阵列面；所述投影单元由一前组透镜和一后组透镜组成，所述探测单元由一前组投影和一后组透镜组成，同时调整所述投影单元和所述探测单元使投影光路和探测光路的光程呈非对称关系，但投影光路和探测光路的光程之和不变。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 工艺 适应性 调焦 系统 | ||
【主权项】：
一种提高工艺适应性的调焦调平系统，其特征在于，包括：一照明单元，用于产生一照明光束，所述照明单元包括若干投影狭缝阵列；一投影单元，用于将所述投影狭缝阵列投影至一待测物表面，根据所述待测物表面所形成的多个测量光斑；一探测单元，用于所述测量光斑成像至一探测狭缝阵列面；所述投影单元由一前组透镜和一后组透镜组成，所述探测单元由一前组透镜和一后组透镜组成，同时调整所述投影单元和所述探测单元使所述投影单元的后组透镜至所述待测物表面的投影光路和所述待测物表面至所述探测单元的前组透镜的探测光路的光程呈非对称关系，但投影光路和探测光路的光程之和不变；所述投影单元的后组透镜偏移理想成像位置的距离等于所述探测单元的前组透镜偏移所述理想成像位置的距离。
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