[发明专利]带有涂覆有原子层沉积的输入端口的集成参考真空压力传感器

摘要

本发明涉及带有涂覆有原子层沉积的输入端口的集成参考真空压力传感器。带有原子层沉积（ALD）涂覆的输入端口的集成参考真空压力传感器包括具有端口的壳体，该端口用于使介质进入壳体；在壳体内的基层和应力隔离构件；其中通道延伸穿过基层和应力隔离构件，其中迹被嵌入在应力隔离构件内，其中应力隔离构件和基层的暴露给通道的表面涂覆有ALD；结合到应力隔离构件的传感器裸芯，传感器裸芯包括具有电路的薄膜，其中薄膜的一侧被暴露给通道并且该电路被安装到该薄膜的另一侧；将该电路电连接到该迹的延伸穿过传感器裸芯的通路；以及结合到应力隔离构件的盖，该盖具有凹部，传感器裸芯在该凹部内。

主权项

一种用于制造压力传感器的方法，该方法包括：形成与基层（122）接触的应力隔离构件（110），其中应力隔离构件（110）和基层（122）具有通道（108），该通道形成为穿过基层（122）和应力隔离构件（110）；制造传感器裸芯（106），其中传感器裸芯（106）包括薄膜（105），该薄膜具有形成在其上的感测电路；将传感器裸芯（106）安装到应力隔离构件（110），其中薄膜（105）的第一侧被暴露给通道（108）的开口；固定应力隔离构件（110）、基层（122）和传感器裸芯（106）到具有输入端口（102）的壳体（104）内，其中通道（108）在壳体（104）内被定位成使得进入输入端口（102）的压力介质也进入通道（108）；用原子层沉积（126）涂覆应力隔离构件（110）和基层（122）的被暴露给输入端口（102）或通道（108）的表面；电连接该感测电路到外部系统；以及在具有已知压力的环境内密封传感器裸芯（106）的第二侧，其中第二侧被气密地与通道（108）的所述开口隔离开。