[发明专利]用于形成图像的下层膜组合物在审

专利信息
申请号: 201410028650.7 申请日: 2009-03-10
公开(公告)号: CN103788653A 公开(公告)日: 2014-05-14
发明(设计)人: 前田真一;小野豪 申请(专利权)人: 日产化学工业株式会社
主分类号: C08L79/08 分类号: C08L79/08;C08G73/10;H01L51/05;H01L21/312
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 李照明;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供用于形成图像的下层膜组合物、以及采用该组合物而获得的固化膜,所形成的用于形成图像的下层膜具有高防水性(疏水性),即使以少的紫外线曝光量也可以容易地改变亲疏水性,而且相对介电常数高。作为解决本发明课题的方法是用于形成图像的下层膜组合物以及采用该组合物获得的固化膜,所述用于形成图像的下层膜组合物的特征在于,包含选自聚酰亚胺前体和该聚酰亚胺前体进行脱水闭环而获得的聚酰亚胺中的至少一种,所述聚酰亚胺前体包含下述式(1)和(1a)所表示的结构单元。(上式中,A表示4价有机基团,B1表示具有氟烷基的2价有机基团,B2表示2价有机基团,R1、R2、R1a、R2a各自独立地表示氢原子或1价有机基团,n和m分别表示正整数且满足0.01≤n/(n+m)≤0.3。)
搜索关键词: 用于 形成 图像 下层 组合
【主权项】:
1.一种有机晶体管用栅极绝缘膜,是使用用于形成图像的下层膜组合物得到的,所述用于形成图像的下层膜组合物包含选自聚酰亚胺前体和该聚酰亚胺前体进行脱水闭环而获得的聚酰亚胺中的至少一种化合物,所述聚酰亚胺前体包含下述式(1)和式(1a)所表示的结构单元,上式中,A表示4价有机基团,B1表示下述式(2)所表示的至少1种2价有机基团,B2表示2价有机基团,R1、R2、R1a、R2a各自独立地表示氢原子或1价有机基团,n是式(1)所表示的结构单元的总摩尔数,m是式(1a)所表示的结构单元的总摩尔数,n和m分别表示正整数且满足0.01≤n/(n+m)≤0.3,上式中,X1表示单键、-O-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-CH2O-,X2表示碳原子数为3~18的2价有机基团,R3表示碳原子数为2~12的全氟烷基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日产化学工业株式会社,未经日产化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410028650.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top