[发明专利]用于形成图像的下层膜组合物在审
申请号: | 201410028650.7 | 申请日: | 2009-03-10 |
公开(公告)号: | CN103788653A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 前田真一;小野豪 | 申请(专利权)人: | 日产化学工业株式会社 |
主分类号: | C08L79/08 | 分类号: | C08L79/08;C08G73/10;H01L51/05;H01L21/312 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 李照明;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明提供用于形成图像的下层膜组合物、以及采用该组合物而获得的固化膜,所形成的用于形成图像的下层膜具有高防水性(疏水性),即使以少的紫外线曝光量也可以容易地改变亲疏水性,而且相对介电常数高。作为解决本发明课题的方法是用于形成图像的下层膜组合物以及采用该组合物获得的固化膜,所述用于形成图像的下层膜组合物的特征在于,包含选自聚酰亚胺前体和该聚酰亚胺前体进行脱水闭环而获得的聚酰亚胺中的至少一种,所述聚酰亚胺前体包含下述式(1)和(1a)所表示的结构单元。(上式中,A表示4价有机基团,B1表示具有氟烷基的2价有机基团,B2表示2价有机基团,R1、R2、R1a、R2a各自独立地表示氢原子或1价有机基团,n和m分别表示正整数且满足0.01≤n/(n+m)≤0.3。) |
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搜索关键词: | 用于 形成 图像 下层 组合 | ||
【主权项】:
1.一种有机晶体管用栅极绝缘膜,是使用用于形成图像的下层膜组合物得到的,所述用于形成图像的下层膜组合物包含选自聚酰亚胺前体和该聚酰亚胺前体进行脱水闭环而获得的聚酰亚胺中的至少一种化合物,所述聚酰亚胺前体包含下述式(1)和式(1a)所表示的结构单元,
上式中,A表示4价有机基团,B1表示下述式(2)所表示的至少1种2价有机基团,B2表示2价有机基团,R1、R2、R1a、R2a各自独立地表示氢原子或1价有机基团,n是式(1)所表示的结构单元的总摩尔数,m是式(1a)所表示的结构单元的总摩尔数,n和m分别表示正整数且满足0.01≤n/(n+m)≤0.3,
上式中,X1表示单键、-O-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-CH2O-,X2表示碳原子数为3~18的2价有机基团,R3表示碳原子数为2~12的全氟烷基。
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