[发明专利]用于形成图像的下层膜组合物

权利要求书

1.一种有机晶体管用栅极绝缘膜，是使用用于形成图像的下层膜组合物得到的，所述用于形成图像的下层膜组合物包含选自聚酰亚胺前体和该聚酰亚胺前体进行脱水闭环而获得的聚酰亚胺中的至少一种化合物，所述聚酰亚胺前体包含下述式(1)和式(1a)所表示的结构单元，

上式中，A表示4价有机基团，B¹表示下述式(2)所表示的至少1种2价有机基团，B²表示2价有机基团，R¹、R²、R^1a、R^2a各自独立地表示氢原子或1价有机基团，n是式(1)所表示的结构单元的总摩尔数，m是式(1a)所表示的结构单元的总摩尔数，n和m分别表示正整数且满足0.01≤n/(n+m)≤0.3，

上式中，X₁表示单键、-O-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-CH₂O-，X₂表示碳原子数为3～18的2价有机基团，R³表示碳原子数为2～12的全氟烷基。

2.根据权利要求1所述的有机晶体管用栅极绝缘膜，在上述式(1a)中，B²是选自下述式(3)～(5)中的至少一种的基团，

在上式中，Y¹各自独立地表示单键、醚键、酯键、硫醚键、酰胺键、碳原子数为1～3的可以具有支链结构的亚烷基或碳原子数为1～3的可以具有支链结构的亚烷基二氧基，Y²表示单键、醚键、酯键、硫醚键、酰胺键，R⁴各自独立地表示氢原子、甲基、乙基、三氟甲基，R⁵表示氢原子、甲基、三氟甲基，R⁶表示亚甲基、亚乙基，j各自独立地表示0或1。

3.根据权利要求1或2所述的有机晶体管用栅极绝缘膜，在上述式(1)和式(1a)中，A所表示的4价有机基团是选自下述式(6)～(11)中的至少一种的基团，

上式中，R⁷、R⁸、R⁹、R¹⁰各自独立地表示氢原子、氟原子或碳原子数为1～4的烃基。

4.根据权利要求1～3的任一项所述的有机晶体管用栅极绝缘膜，包含上述式(1)和式(1a)所表示的结构单元的聚酰亚胺前体和该聚酰亚胺前体进行脱水闭环而获得的聚酰亚胺，是使下述式(16)所表示的四羧酸二酐与下述式(17)和(18)所表示的二胺成分反应而获得的聚酰亚胺前体和聚酰亚胺，

上式中，A、B¹和B²与上述式(1)和式(1a)中的定义相同。

5.一种有机晶体管，是采用权利要求1～4的任一项所述的有机晶体管用栅极绝缘膜而获得的。