[发明专利]一种具有高维持电压的SCR结构及其制作方法无效
申请号: | 201410017808.0 | 申请日: | 2014-01-16 |
公开(公告)号: | CN103730461A | 公开(公告)日: | 2014-04-16 |
发明(设计)人: | 金湘亮;周阿铖;汪洋 | 申请(专利权)人: | 湘潭大学 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L29/06;H01L21/822 |
代理公司: | 湘潭市汇智专利事务所 43108 | 代理人: | 颜昌伟 |
地址: | 411105*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种具有高维持电压的SCR结构及其制作方法。所述SCR结构包括P型衬底,P型衬底上设有N阱和P阱,所述P阱上设有条形第一N+注入区,第一N+注入区的周边设有环状的第一P+注入区,第一N+注入区与第一P+注入区之间设有第三场氧隔离区,所述N阱上设有并列的第二N+注入区、第二P+注入区,第二N+注入区与P型衬底之间设有第一场氧隔离区,第二P+注入区与第一P+注入区之间设有第二场氧隔离区,第一P+注入区与P型衬底之间设有第四场氧隔离区。本发明采用环形的阴极(阳极)保护环,可以大大提高SCR结构的维持电压,使芯片远离闩锁风险。并且制作工艺简单、操作方便。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 维持 电压 scr 结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种具有高维持电压的SCR结构,其特征在于:包括P型衬底(101),P型衬底上设有N阱(102)和P阱(103),所述P阱(103)上设有条形第一N+注入区(104),第一N+注入区(104)的周边设有环状的第一P+注入区(105),第一N+注入区(104)与第一P+注入区(105)之间设有第三场氧隔离区(203),所述N阱(102)上设有并列的第二N+注入区(106)、第二P+注入区(107),第二N+注入区(106)与P型衬底之间设有第一场氧隔离区(201),第二P+注入区(107)与第一P+注入区(105)之间设有第二场氧隔离区(202),第一P+注入区(105)之间与P型衬底之间设有第四场氧隔离区(204)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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