[发明专利]一种HIT电池前清洗的方法

摘要

本发明公开了一种HIT电池前清洗的方法，包括如下步骤：（1）在50～100℃的碱性药液中超声5～10min，然后浸渍10～15min；（2）水洗；（3）在酸性药液Ⅰ中浸渍1～5min，酸性药液Ⅰ为1%～10%HCl、1%～20%添加剂Ⅱ和水的混合液；（4）水洗；（5）在氢氟酸溶液中浸渍1～5min；（6）水洗；（7）酸性药液Ⅱ中浸渍1～5min，酸性药液Ⅱ为5%～20%HF、40%～60%硝酸和水的混合液；（8）水洗；（9）在酸性药液Ⅰ中浸渍1～5min；（10）水洗；（11）在氢氟酸溶液中浸渍1～5min；（12）水洗。本发明能够得到较高的硅片表面质量，从而有效提高HIT电池的效率。

主权项

一种HIT电池前清洗的方法，其特征在于：依次包括如下步骤：（1）在50～100℃的碱性药液中超声5～10min，然后浸渍10～15min，去除硅片表面损伤，所述碱性药液为5%～15%氢氧化钠、0.1%～10%添加剂Ⅰ和水的混合液；（2）水洗1～5min；（3）在酸性药液Ⅰ中浸渍1～5min，去除硅片表面金属杂质，所述酸性药液Ⅰ为1%～10%HCl、1%～20%添加剂Ⅱ和水的混合液；（4）水洗1～5min；（5）在氢氟酸溶液中浸渍1～5min，硅片脱水并表面钝化；（6）水洗1～5min；（7）在酸性药液Ⅱ中浸渍1～5min，降低硅片表面的反射率，所述酸性药液Ⅱ为5%～20%HF、40%～60%硝酸和水的混合液；（8）水洗1～5min；（9）在酸性药液Ⅰ中浸渍1～5min；（10）水洗1～5min；（11）在氢氟酸溶液中浸渍1～5min；（12）水洗1～5min。