[发明专利]羟基-二苯甲烷衍生物的制备

摘要

提供了制备SGLT2抑制剂的中间体的方法，其包括晶形和使中间体结晶的方法。

主权项

制备式I的化合物的方法：所述方法包括：在适于制备所述式I的化合物的条件下形成包含式II的化合物：硅烷还原剂、催化剂和溶剂的反应混合物，其中X为溴或碘，R¹选自氢、卤素、C₁‑C₃烷基、C₂‑C₄烯烃、C₂‑C₄炔烃、C₃‑C₆环烷基和‑CN，各个R²和R³独立地选自氢、卤素、羟基、C₁‑C₃烷基、C₂‑C₄烯基、C₁‑C₃烷氧基、C₁‑C₃烷基‑羟基、C₃‑C₆环烷基、(C₁‑C₃烷氧基)C₁‑C₃烷基、(C₁‑C₃卤代烷氧基)C₁‑C₃烷基、(C₂‑C₄烯氧基)C₁‑C₃烷基、(C₂‑C₄炔氧基)C₁‑C₃烷基、(C₃‑C₆环烷氧基)C₁‑C₃烷基、C₁‑C₃羟基烷氧基、C₃‑C₆环烷氧基、C₃‑C₆杂环烷氧基、(C₁‑C₃烷氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₁‑C₃卤代烷氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₂‑C₄烯氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₂‑C₄炔氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₃‑C₆环烷氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₃‑C₆杂环烷氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₃‑C₆环烷基)C₁‑C₃烷氧基、(C₃‑C₆环烷基)C₂‑C₄烯氧基、(C₃‑C₆环烷基)C₂‑C₄炔氧基、‑C(O)H、‑C(O)OH和‑C(O)O‑C₁‑C₃烷基，其中至少一个R³选自C₁‑C₃烷氧基、C₁‑C₃羟基烷氧基、C₃‑C₆环烷氧基、C₃‑C₆杂环烷氧基、(C₁‑C₃烷氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₁‑C₃卤代烷氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₂‑C₄烯氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₂‑C₄炔氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₃‑C₆环烷氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₃‑C₆杂环烷氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₃‑C₆环烷基)C₁‑C₃烷氧基、(C₃‑C₆环烷基)C₂‑C₄烯氧基和(C₃‑C₆环烷基)C₂‑C₄炔氧基；各个R⁴独立地选自氢、卤素、‑OR^4a、C₁‑C₃烷基、C₂‑C₄烯基、C₁‑C₃烷氧基、C₁‑C₃烷基‑羟基、C₃‑C₆环烷基、(C₁‑C₃烷氧基)C₁‑C₃烷基、(C₁‑C₃卤代烷氧基)C₁‑C₃烷基、(C₂‑C₄烯氧基)C₁‑C₃烷基、(C₂‑C₄炔氧基)C₁‑C₃烷基、(C₃‑C₆环烷氧基)C₁‑C₃烷基、C₁‑C₃羟基烷氧基、C₃‑C₆环烷氧基、C₃‑C₆杂环烷氧基、(C₁‑C₃烷氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₁‑C₃卤代烷氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₂‑C₄烯氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₂‑C₄炔氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₃‑C₆环烷氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₃‑C₆杂环烷氧基)C₁‑C₃烷氧基、(C₃‑C₆环烷基)C₁‑C₃烷氧基、(C₃‑C₆环烷基)C₂‑C₄烯氧基、(C₃‑C₆环烷基)C₂‑C₄炔氧基、‑C(O)H、‑C(O)OH和‑C(O)O‑C₁‑C₃烷基，其中R^4a选自氢和甲硅烷基；其中至少一个R⁴是‑OR^4a；环C选自芳基和杂芳基，环D不存在或选自芳基和杂芳基，下标n是1至4的整数，其中烷基、烷氧基、环烷基、烯氧基、炔氧基、环烷氧基、羟基烷氧基和杂环烷氧基或其部分可以任选地是部分氟化的或完全氟化的，以及一个或多个氢原子任选地可以被氘取代。