[发明专利]高气流微桁架结构设备有效

专利信息
申请号: 201380077884.4 申请日: 2013-06-26
公开(公告)号: CN105377069B 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: A·J·雅各布森;W·卡特;沙-谢尔·曼宁 申请(专利权)人: HRL实验室有限责任公司
主分类号: B32B3/26 分类号: B32B3/26
代理公司: 北京瑞恒信达知识产权代理事务所(普通合伙) 11382 代理人: 曹津燕;尹卓
地址: 美国加利福*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了一种用于保持工作面的环境状态的设备,包括:第一微桁架层,所述第一微桁架层包括:沿第一方向延伸的多个第一支柱;沿第二方向延伸的多个第二支柱;和沿第三方向延伸的多个第三支柱,第一支柱、第二支柱和第三支柱在多个节点处彼此穿插,第一支柱、第二支柱和第三支柱以非垂直的角度彼此穿插,该设备具有被构造为接触工作面的接触面和被构造为允许空气流动到该接触面的开孔,其中接触面的总表面积在工作面的总表面积的大约1%到大约50%之间。
搜索关键词: 气流 桁架 结构 设备
【主权项】:
1.一种用于保持工作面的环境状态的设备,包括:第一微桁架层,所述第一微桁架层包括:沿第一方向延伸的多个第一支柱;沿第二方向延伸的多个第二支柱;和沿第三方向延伸的多个第三支柱;和第二微桁架层,所述第一支柱、所述第二支柱和所述第三支柱在多个节点处彼此穿插,所述第一支柱、所述第二支柱和所述第三支柱以非垂直角度彼此穿插,所述设备具有被构造为接触所述工作面的接触面和被构造为允许空气流动到所述接触面的开孔,其中所述接触面的总表面积在所述工作面的总表面积的约1%到约50%之间,其中,所述第二微桁架层位于所述第一微桁架层与所述工作面之间,所述第二微桁架层被构造为从所述工作面吸入流体,以及其中,当所述设备在高达50%的致密化应变下时,所述第一微桁架层在所述接触面处的总表面积与所述接触面的总表面积的比率保持基本恒定。
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