[发明专利]高气流微桁架结构设备

权利要求书

1.一种用于保持工作面的环境状态的设备，包括：

第一微桁架层，所述第一微桁架层包括：

沿第一方向延伸的多个第一支柱；

沿第二方向延伸的多个第二支柱；和

沿第三方向延伸的多个第三支柱；和

第二微桁架层，

所述第一支柱、所述第二支柱和所述第三支柱在多个节点处彼此穿插，所述第一支柱、所述第二支柱和所述第三支柱以非垂直角度彼此穿插，

所述设备具有被构造为接触所述工作面的接触面和被构造为允许空气流动到所述接触面的开孔，其中所述接触面的总表面积在所述工作面的总表面积的约1％到约50％之间，

其中，所述第二微桁架层位于所述第一微桁架层与所述工作面之间，所述第二微桁架层被构造为从所述工作面吸入流体，以及

其中，当所述设备在高达50％的致密化应变下时，所述第一微桁架层在所述接触面处的总表面积与所述接触面的总表面积的比率保持基本恒定。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述第一支柱、所述第二支柱和所述第三支柱形成多个第一单胞。

3.根据权利要求2所述的设备，其中，所述多个第一单胞为大约相同的尺寸。

4.根据权利要求1所述的设备，其中，所述接触面包括多个彼此分开的接触点，所述接触点中的每一个都具有在从大约100平方微米到大约10平方毫米的范围内的接触面积。

5.根据权利要求1所述的设备，其中，所述第二微桁架层包括：

沿第四方向延伸的多个第四支柱；

沿第五方向延伸的多个第五支柱；和

沿第六方向延伸的多个第六支柱，

所述第二微桁架层位于所述第一微桁架层与所述接触面之间。

6.根据权利要求5所述的设备，其中，所述第四支柱、所述第五支柱和所述第六支柱形成多个第二单胞，所述第一支柱、所述第二支柱和所述第三支柱形成多个第一单胞，所述第一单胞中的每一个均大于所述第二单胞中的每一个。

7.根据权利要求5和6中的一项所述的设备，其中，所述第一支柱、所述第二支柱和所述第三支柱形成第一三维图案，所述第四支柱、所述第五支柱和所述第六支柱形成第二三维图案，所述第二三维图案不同于所述第一三维图案。

8.根据权利要求7所述的设备，还包括与所述第一三维图案和所述第二三维图案相连接的分界面。

9.根据权利要求7所述的设备，其中，所述第一三维图案和所述第二三维图案在三维空间内有序排列。

10.根据权利要求1所述的设备，其中，所述第一微桁架层包括多个第四支柱，所述多个第四支柱在垂直于所述接触面的方向上延伸。

11.根据前述权利要求1-6中任一项所述的设备，其中，所述设备被构造为与人可穿戴的物品一起使用。

12.根据权利要求7所述的设备，其中，所述设备被构造为与人可穿戴的物品一起使用。

13.根据权利要求8-10中任一项所述的设备，其中，所述设备被构造为与人可穿戴的物品一起使用。