[发明专利]补给剂、表面处理金属材料及其制备方法

摘要

本发明的目的在于提供一种补给剂，所述补给剂可以避免金属材料用表面处理液中的HF浓度的上升，同时可以向金属材料用表面处理液以更高浓度补给锆离子，使可以对金属材料连续进行化学转换处理和/或电解处理，且该补给剂的长期保存稳定性优异。本发明的补给剂含有既定量的下述成分不含氟的锆化合物(A)，其包含选自碱性碳酸锆、碳酸锆、氢氧化锆和碳酸锆铵的至少一种；含氟物(B)，其包含选自氢氟酸、氢氟酸盐、锆氢氟酸和锆氢氟酸盐的至少一种；以及酸成分(C)，其包含选自硝酸、盐酸、硫酸和乙酸的至少一种。

主权项

补给剂，所述补给剂用于对包含锆离子和氟离子的金属材料用表面处理液补给锆离子，所述金属材料用表面处理液用于通过化学转换处理和/或电解处理在金属材料上形成含有锆的化学转换处理被膜，所述补给剂含有下述成分：不含氟的锆化合物(A)，其包含选自碱性碳酸锆、碳酸锆、氢氧化锆和碳酸锆铵的至少一种；含氟物(B)，其包含选自氢氟酸、氢氟酸盐、锆氢氟酸和锆氢氟酸盐的至少一种；以及酸成分(C)，其包含选自硝酸、盐酸、硫酸和乙酸的至少一种；所述补给剂满足以下的(I)～(III)：(I) 来自上述酸成分(C)的阴离子的总摩尔量MAC与来自上述含氟物(B)的氟离子的总摩尔量MF之比MAC/MF为0.35以上且不足2.00；(II) 来自上述不含氟的锆化合物(A)和上述含氟物(B)的锆离子的总浓度为25g/L以上；(III) 来自上述含氟物(B)的氟离子的总摩尔量MF与来自上述不含氟的锆化合物(A)和上述含氟物(B)的锆离子的总摩尔量MZr之比MF/MZr为2.00以上且不足6.00。