[发明专利]光分析装置的评价方法和幻影样本在审

专利信息
申请号: 201380071944.1 申请日: 2013-10-02
公开(公告)号: CN104956207A 公开(公告)日: 2015-09-30
发明(设计)人: 山口光城 申请(专利权)人: 奥林巴斯株式会社
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 简单且高精度地对光分析装置的光学系统进行评价。提供一种具备能够将激励光B聚光来在焦点位置形成共焦区(C)的光学系统(A)的光分析装置的评价方法,包括以下步骤:在光学系统(A)的焦点位置配置将荧光物质的浓度不同的两种以上的多个固体构件(2、3)邻接排列所形成的幻影样本(1);一边使通过光学系统(A)形成的共焦区(C)和幻影样本(1)沿固体构件(2、3)的排列方向相对地移动,一边经由光学系统(A)向幻影样本(1)照射激励光;检测配置于共焦区(C)内的固体构件(2、3)处产生的荧光;以及根据检测出的荧光对光学系统(A)进行评价。
搜索关键词: 分析 装置 评价 方法 幻影 样本
【主权项】:
一种光分析装置的评价方法,该光分析装置具备能够将激励光聚光来在焦点位置形成共焦区的光学系统,该光分析装置的评价方法包括以下步骤:在上述光学系统的焦点位置配置幻影样本,其中,该幻影样本是将荧光物质的浓度不同的两种以上的多个固体构件邻接排列而形成的;一边使通过上述光学系统形成的共焦区和上述幻影样本沿上述固体构件的排列方向相对地移动,一边经由上述光学系统向上述幻影样本照射激励光;检测配置于上述共焦区内的固体构件处产生的荧光;以及根据检测出的荧光对上述光学系统进行评价。
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