[发明专利]用于制造包含至少两个光学元件的波前校正的光学装置的方法

摘要

本发明涉及一种用于制造包含至少两个光学元件(2)的波前校正的光学装置的方法。利用该方法，测定该光学装置中的总波前误差并将其与该总波前误差的允许容差范围比较。为了进行该方法，通过给光学元件(2)相应地指定各自的标识符(9)而将这些光学元件个体化，从而获得个体化的光学元件(2.1A至2.1H)，按正确坐标测量所有个体化的光学元件(2.1A至2.1H)的各自的表面缺陷，并将测得的各个表面缺陷按指定给适当的个体化的光学元件(2.1A至2.1H)的正确坐标而予以储存。虚拟地制造包含这些个体化的光学元件(2.1A至2.1H)的光学装置以作为虚拟光学装置(1)，并计算该虚拟光学装置(1)的总波前误差。

主权项

一种用于制造包含至少两个光学元件(2)的波前校正的光学装置的方法，其中在步骤a)中，测定该光学装置的总波前误差，在步骤b)中，将该总波前误差与该总波前误差的允许容差范围比较，在步骤c)中，如果超出该允许容差范围，则选择至少一个光学元件(2)，并且在步骤d)中，改变该至少一个选定的光学元件(2)的光学特性，以使得该光学装置的该测定的总波前误差处于该允许容差范围内，其特征在于，‑在步骤a)之前：‑在步骤a‑2)中，将该些光学元件(2)个体化，其方式为：相应地为该些光学元件指定各自的标识符(9)，以形成个体化的光学元件(2.1B至2.1H)，按正确坐标测量所有个体化的光学元件(2.1B至2.1H)的各自的表面误差，并将测得的各个表面误差按正确坐标以它们被指定给对应的个体化的光学元件(2.1B至2.1H)的方式予以储存，并且‑在步骤a‑1)中，虚拟地制造具有该些个体化的光学元件(2.1B至2.1H)的光学装置作为虚拟光学装置(1)，‑在步骤a)中，通过计算各个表面误差来测定该虚拟光学装置(1)的该总波前误差并获得计算的总波前误差，其中该总波前误差是覆盖所有场点的波前误差的总和，从而使得能够同时为所有场点作出该总波前误差的校正；‑在步骤b)中，将计算的总波前误差与该总波前误差的允许容差范围比较，‑在步骤d)中，虚拟地改变该至少一个选定的个体化的光学元件(2.1B至2.1H)的光学特性，以使得该光学装置(1)的计算的总波前误差处于该允许容差范围内，‑在步骤e)中，将该至少一个选定的个体化的光学元件(2.1B至2.1H)的光学特性的虚拟地实现的改变作为加工数据予以储存并且提供这些加工数据以使其可被反复调用，并且‑在步骤f)中，根据该加工数据加工该至少一个选定的个体化的光学元件(2.1B至2.1H)，并用该些个体化的光学元件(2.1B至2.1H)制造该光学装置。