[发明专利]用于制造包含至少两个光学元件的波前校正的光学装置的方法

权利要求书

1.一种用于制造包含至少两个光学元件(2)的波前校正的光学装置的方法，其中

在步骤a)中，测定该光学装置的总波前误差，

在步骤b)中，将该总波前误差与该总波前误差的允许容差范围比较，

在步骤c)中，如果超出该允许容差范围，则选择至少一个光学元件(2)，并且

在步骤d)中，改变该至少一个选定的光学元件(2)的光学特性，以使得该光学装置的该测定的总波前误差处于该允许容差范围内，

其特征在于，

-在步骤a)之前：

-在步骤a-2)中，将该些光学元件(2)个体化，其方式为：相应地为该些光学元件指定各自的标识符(9)，以形成个体化的光学元件(2.1B至2.1H)，按正确坐标测量所有个体化的光学元件(2.1B至2.1H)的各自的表面误差，并将测得的各个表面误差按正确坐标以它们被指定给对应的个体化的光学元件(2.1B至2.1H)的方式予以储存，并且

-在步骤a-1)中，虚拟地制造具有该些个体化的光学元件(2.1B至2.1H)的光学装置作为虚拟光学装置(1)，

-在步骤a)中，通过计算各个表面误差来测定该虚拟光学装置(1)的该总波前误差并获得计算的总波前误差，其中该总波前误差是覆盖所有场点的波前误差的总和，从而使得能够同时为所有场点作出该总波前误差的校正；

-在步骤b)中，将计算的总波前误差与该总波前误差的允许容差范围比较，

-在步骤d)中，虚拟地改变该至少一个选定的个体化的光学元件(2.1B至2.1H)的光学特性，以使得该光学装置(1)的计算的总波前误差处于该允许容差范围内，

-在步骤e)中，将该至少一个选定的个体化的光学元件(2.1B至2.1H)的光学特性的虚拟地实现的改变作为加工数据予以储存并且提供这些加工数据以使其可被反复调用，并且

-在步骤f)中，根据该加工数据加工该至少一个选定的个体化的光学元件(2.1B至2.1H)，并用该些个体化的光学元件(2.1B至2.1H)制造该光学装置。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，

在步骤a)中，考虑任意数目的场点(a，b)，并针对每个场点(a，b)产生虚拟光束(4，5)，并且计算当该些虚拟光束穿过该虚拟光学装置(1)时在每个个体化的光学元件(2.1B至2.1H)的每个表面上的投影作为子孔径(8)。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，

针对每个场点(a，b)，从该子孔径(8)的各自的表面误差计算对应的波前误差比例并予以储存。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，

推导出每个子孔径(8)对该计算的总波前误差的影响。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，

按正确的符号和正确的定向将推导出的对该计算的总波前误差的影响相加。

6.如权利要求4所述的方法，其特征在于，

将推导出的对该计算的总波前误差的影响分解成系数，随后按正确的符号和正确的定向将该些系数相加。

7.如权利要求1到6中的一项所述的方法，其特征在于，

该些虚拟光束(4，5)被设置在具有已知的相对于彼此的栅格间距的任意栅格中。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，

该些栅格间距被选择为使得该些子孔径(8)在至少一个选定的个体化的光学元件(2.1B至2.1H)的表面上重叠。

9.如权利要求1到8中的一项所述的方法，其特征在于，

针对每个场点(a，b)考虑对该计算的总波前误差的影响，该影响被称为一个假定为理想状况的虚拟光学装置(1)的标称误差。

10.如权利要求1到9中的一项所述的方法，其特征在于，另外还校正了在场侧的个体化的光学元件(2.1B至2.1H)上的像平面(6)中的失真。

11.如权利要求1到10中的一项所述的方法，其特征在于，该些个体化的光学元件(2.1)未被涂覆。

12.如权利要求1到10中的一项所述的方法，其特征在于，该至少一个选定的个体化的光学元件(2.1B至2.1H)未被涂覆。