[发明专利]用于减少阻隔层的伤害的涂布方法在审
| 申请号： | 201380062671.4 | 申请日： | 2013-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN104822860A | 公开（公告）日： | 2015-08-05 |
| 发明（设计）人： | 金东烈;黄樯渊;李晟焕;柳相旭;金俊衡;孙凡权;李贤智 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | C23C26/00 | 分类号： | C23C26/00 |
| 代理公司： | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 朱梅;钱程 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本申请涉及一种减少对阻隔层的损害的涂布方法。在进行用于保护阻隔膜的阻隔层的保护性涂布中，通过不与阻隔层直接接触的涂布方法，本发明的阻隔膜能够通过抑制透水性的劣化而改进气体阻隔性能。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 减少 阻隔 伤害 方法 | ||
【主权项】：
一种制备阻隔膜的方法，包括：通过原子层沉积(ALD)在基板层上形成阻隔层，以及通过非接触性涂布方法用涂布组合物涂布所述阻隔层以形成保护层。
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