[发明专利]EUV辐射产生设备及其运行方法有效
| 申请号： | 201380055789.4 | 申请日： | 2013-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN104756607B | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | M·兰贝特;A·恩茨曼 | 申请（专利权）人： | 通快激光系统半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 曾立 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种EUV辐射产生设备(1)，其包括真空室(4)以及用于将来自驱动激光装置(2)的激光射束(5)朝目标位置(Z)方向引导的射束引导室(3)，在所述真空室中为了产生EUV辐射(14)可以将靶材料(13)设置在所述目标位置(Z)处。EUV辐射产生设备(1)包括安置在所述真空室(4)和所述射束引导室(3)之间的中间室(18)、气体密封地封闭所述中间室(18)的用于使来自所述射束引导室(3)的激光射束(5)进入的第一窗(19)，以及气体密封地封闭所述中间室(18)的用于使所述激光射束(5)输出到所述真空室(4)中的第二窗(20)。本发明也涉及一种用于运行所述EUV辐射产生设备(1)的方法。 | ||
| 搜索关键词： | euv 辐射 产生 设备 及其 运行 方法 | ||
【主权项】：
一种EUV辐射产生设备(1)，其包括：真空室(4)以及用于将来自驱动激光器装置(2)的激光射束(5)朝目标位置(Z)方向引导的射束引导室(3)，在所述真空室中为了产生EUV辐射(14)可以将靶材料(13)设置在所述目标位置(Z)处，安置在所述真空室(4)和所述射束引导室(3)之间的中间室(18)，气体密封地封闭所述中间室(18)的用于使来自所述射束引导室(3)的激光射束(5)进入的第一窗(19)，以及气体密封地封闭所述中间室(18)的用于使所述激光射束(5)输出到所述真空室(4)中的第二窗(20)，其特征在于所述EUV辐射产生设备还包括：用于根据所输送的检查气体(24)监视所述中间室(18)的泄漏的泄漏监视装置(29)。
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