[发明专利]EUV辐射产生设备及其运行方法

权利要求书

1.一种EUV辐射产生设备(1)，其包括：真空室(4)以及用于将来自驱动激光器装置(2)的激光射束(5)朝目标位置(Z)方向引导的射束引导室(3)，在所述真空室中为了产生EUV辐射(14)可以将靶材料(13)设置在所述目标位置(Z)处，

其特征在于

安置在所述真空室(4)和所述射束引导室(3)之间的中间室(18)，

气体密封地封闭所述中间室(18)的用于使来自所述射束引导室(3)的激光射束(5)进入的第一窗(19)，以及气体密封地封闭所述中间室(18)的用于使所述激光射束(5)输出到所述真空室(4)中的第二窗(20)。

2.根据权利要求1所述的EUV辐射产生设备，其特征在于，所述射束引导室(3)具有比周围环境、尤其比所述EUV辐射产生设备(1)外部的周围环境更高的压力(p₁)。

3.根据权利要求1或2所述的EUV辐射产生设备，其还包括：

用于将检查气体(24)输送到所述中间室(18)的输送装置(23)以及用于根据所输送的检查气体(24)监视所述中间室(18)的泄漏的泄漏监视装置(29)。

4.根据权利要求3所述的EUV辐射产生设备，其中，所述输送装置(23)构造用于在所述中间室(4)中产生检查气体压力(p)，所述检查气体压力大于所述射束引导室(3)中的压力(p₁)并且大于所述真空室(4)中的运行压力(p₂)。

5.根据权利要求3或4所述的EUV辐射产生设备，其中，所述输送装置(23)具有用于以供给压力(p₀)提供所述检查气体(24)的提供装置(25)以及设置在所述压力产生装置(25)和所述中间室(18)之间的节流阀(26)。

6.根据权利要求5所述的EUV辐射产生设备，其中，所述输送装置(23)具有用于确定输送给所述中间室(18)的检查气体流(dv/dt)的气体流传感器(30)。

7.根据权利要求2至6中任一项所述的EUV辐射产生设备，其还包括：至少一个用于确定所述中间室(18)中的检查气体压力(p)的压力传感器(28)。

8.根据以上权利要求中任一项所述的EUV辐射产生设备，其还包括：用于在所述真空室(4)中产生运行压力(p₂)的真空产生装置(21)。

9.根据以上权利要求中任一项所述的EUV辐射产生设备，其还包括：用于使所述激光射束(5)在所述目标位置(Z)处聚焦的聚焦装置(6)。

10.根据权利要9所述的EUV辐射产生设备，其中，所述聚焦装置(6)设置在所述真空室(4)中。

11.根据以上权利要求中任一项所述的EUV辐射产生设备，其中，将所述窗(19，20)中的至少一个构造为平面平行的板。

12.根据以上权利要求中任一项所述的EUV辐射产生设备，其中，所述窗(19，20)中的至少一个由金刚石构成。

13.根据以上权利要求中任一项所述的EUV辐射产生设备，其中，所述射束引导室(3)具有用于扩展所述激光射束(5)的装置(15)。

14.一种用于运行根据以上权利要求中任一项所述的EUV辐射产生设备(1)的方法，所述方法包括：

通过将所述激光射束(5)引导到设置在所述目标位置(Z)处的靶材料(13)来产生EUV辐射(14)，

其特征在于，

根据所述中间室(18)中的检查气体压力(p)和/或根据输送给所述中间室(18)的检查气体(24)的检查气体流(dv/dt)来监视所述中间室(18)的泄漏。