[发明专利]极紫外光源的靶材料供应装置有效

专利信息
申请号: 201380053831.9 申请日: 2013-09-25
公开(公告)号: CN104885161B 公开(公告)日: 2017-12-05
发明(设计)人: S·德地亚;G·O·瓦斯恩冦;P·M·包姆加特;N·R·鲍尔林 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G21K5/00 分类号: G21K5/00;G01J1/04;H05G2/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所11256 代理人: 王茂华
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种用于极紫外(EUV)光源的靶材料供应装置,包括管,该管包括第一端、第二端、以及限定在第一端和第二端之间的侧壁。管的外表面的至少一部分包括电绝缘材料,第一端接收增压的靶材料,且第二端限定一孔口,增压的靶材料通过该孔口流过以产生靶材料液滴流。所述靶材料供应装置还包括位于管的外表面上的导电涂层。该涂层被配置为将管的外表面电连接至地从而减少外表面上的表面电荷。
搜索关键词: 紫外 光源 材料 供应 装置
【主权项】:
一种极紫外(EUV)光源的靶材料供应装置,所述装置包括:管,所述管包括第一端、第二端、以及限定在所述第一端和所述第二端之间的侧壁,其中所述管的外表面的至少一部分包括电绝缘材料,所述第一端接收增压的靶材料,且所述第二端限定了孔口,所述增压的靶材料通过所述孔口来产生靶材料液滴流;以及位于所述管的限定所述孔口的所述第二端上的导电涂层,所述涂层被配置为将所述管的外表面电连接到地,藉此减少外表面上的表面电荷。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380053831.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top